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  • 商品名称: VTC-5RF 5靶头等离子射频磁控溅射仪(针对于MGI薄膜研究)
  • 商品编号: VTC-5RF 5靶头等离子射频磁控溅射仪(针对于MGI薄膜
  • 上架时间: 2017-12-22
  • 浏览次数: 6

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        VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。

技术参数
概念

● 5个溅射头安装5种不同材料

● 通过不同的溅射时间,5种材料可以溅射出不同组分的产物

● 选择5个等离子射频电源,可在同一时间溅射5种材料

● 真空腔体中安装有旋转样品台,可以制作16个样品

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电源

单相220 VAC, 50 / 60 Hz

射频电源

● 一个13.5MHz,300W自动匹配的射频电源安装在仪器上,并与靶头相连接

● 一个旋转开关可一次激活一个溅射头。溅射头可以在真空或等离子体环境中自动切换

● 可选购多个射频电源,同一时间溅射多个靶材。

● 所有的溅射参数,都可由电脑设置

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直流电源(可选)

● 可选购直流电源,来溅射金属靶材

● 可配置5个直流或射频电源,来同时溅射5中靶材

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磁控溅射头

● 5个1英寸的磁控溅射头,带有水冷夹层

● 可在本公司额外购买射频线

● 电动挡板安装在溅射腔体内

● 设备中配有一循环水冷机,水流量为10L/min

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溅射靶材

● 所要求靶材尺寸:直径为25.4mm,最大厚度3mm

● 溅射距离: 50 – 80 mm(可调)

● 溅射角度: 0 – 25°(可调)

● 配有铜靶和 Al2O3 靶,用于样品测试用

● 可在本公司购买各种靶材

● 实验时,需要将靶材和铜片粘合,可通过导电银浆粘合(可在本公司购买导电银浆)

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真空腔体

● 真空腔体采用304不锈钢制作

● 腔体内部尺寸: 470mm L×445mm D×522mm H (~ 105 L)

● 铰链式腔门,直径为Φ380mm,上面安装有Φ150mm的玻璃窗口

● 真空度: 4E-5 torr (采用分子泵)

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样品台

● 直径为150mm的样品台,上面覆盖一旋转台,带有10mm的孔洞,每次露出一个样品接收溅射成膜。

● 样品台尺寸:Φ150mm,可通过程序控制来旋转,可制作16种不同组分的薄膜

● 样品台可以加热,最高温度可达600℃

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真空泵

● 设备中配有一小型涡旋分子泵

● 真空泵接口为KF40

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石英振荡测厚仪(可选)

● 可选购精密石英振荡测厚仪,安装在真空腔体内,实时测量薄膜的厚度,精确度为0.1 Å(需水冷)

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净重

60kg

质量认证

CE认证

质保

一年质保期,终生维护

应用注意事项

● 此款设备设置主要是在单晶基片上制作氧化物薄膜,所以不需要高真空的环境

● 所用气瓶上必须安装减压阀(可在本公司购买),所用Ar气纯度为5N

● 为了得到较好质量的薄膜,可以对基片进行清洗

● 用超声波清洗机,用丙酮或乙醇作为清洗介质,清除基片表面的油脂,然后在N2气或真空环境下对基片干燥

● 等离子清洗机,可使基片表面粗糙化,改变基片表面化学活性,清除表面污染物

● 可在基片表面镀上缓冲层,如Cr, Ti, Mo, Ta,,可改善金属或合金膜的粘附性

● 溅射一些非导电靶材,其靶材背后必须附上铜垫片

● 本公司实验室成功地在Al2O3基片上成功生长出ZnO外延膜

● 因为溅射头连接着高电压,所以用户在放入样品或更换靶材时,必须切断电源

● 不可用自来水作为冷却水,以防水垢堵塞水管。应该用等离子水,或专用冷却介质

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