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  • 商品名称: OTF-1200X-S-HPCVD 坩埚(样品台)可移动型1200℃管式炉
  • 商品编号: OTF-1200X-S-HPCVD
  • 上架时间: 2015-12-29
  • 浏览次数: 136

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      OTF-1200X-S-HPCVD是一款坩埚可炉管内移动(靠步进电机控制)的小型开启式管式炉。炉管直径为50mm,设备最高工作温度为1200℃。
      设备特点:坩埚通过一步进电机控制炉管,按照设定程序移动,同时坩埚后端安装一热电偶(随坩埚仪器移动),可实时监测样品的温度,意味着可通过移动坩埚的位置,在炉体中准确找到实验所需要的温度,使得实验准确度更高,重复性更强。此款设备可用于多种实验,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),快速热蒸发,也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法来长晶体。

技术参数
高温炉部分

● 炉体设计为开启式,以便于更换炉管

● 工作电源:208 - 240 VAC, 50/60Hz

● 最大功率为:2KW

● 最高工作温度:1200℃(<1hr)

● 连续工作温度:1100℃

● 加热区长度:200mm

● 恒温区长度:60mm(+/-1℃ @ 1000 ℃ ) 注:由于测量手段及外部环境的影响,测量结果可能会有偏差,此参数仅供参考不作为该设备的技术指标。您购买产品需要准确的恒温区数据,请与我公司销售人员联系

● 炉管:高纯石英管,尺寸50mm O.D x 44mm I.D x 450mm L)(点击图片查看详细资料)

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温度控制系统

● 采用PID30段程序化控温,其控温精度为+/-1℃

控温仪表操作视频

● 设有过热和断偶保护

● 热电偶采用K型热电偶

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真空密封

● 采用KF结构密封法兰,硅胶密封圈密封

● 法兰上安装有一机械压力表

● 右端法兰与一个真空不锈钢波纹管连接(不锈钢波纹管最大伸缩幅度为150mm)

● 真空度:10-2Torr(用机械泵抽)10-5Torr(用分子泵抽)

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坩埚移动机构&PLC控制

● 一个直径为1/4"的欧米伽铠装热电偶(K型),通过法兰伸入到炉管中,并可随坩埚移动,可实时监测样品的实际温度

● 通过步进电机移动炉管内的坩埚(样品台),最大行程为100mm,移动精度为1mm

● 通过触摸屏设定坩埚一定的距离和目标位置,坩埚移动速度为180mm/min(更精确的移动速度,可与本公司联系定制,需额外收费)

● 可观察下图,了解坩埚与热电偶的安装方法

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最大加热速率和冷却速率 可通过移动样品到已预加热的炉体中来得到最大的加热速率,也可将样品迅速移除高温的炉体,来得到最大的降温速率
最大加热速率
10℃/sec (150℃ - 250℃);
7℃/sec (250℃ - 350℃);
4℃/sec (350℃ - 500℃);
3℃/sec (500℃ - 550℃);
2℃/sec (550℃ - 650℃);
1℃/sec (650℃ - 800℃);
0.5℃/sec (800℃ - 1000℃);
最大降温速率
10℃/sec (950℃ - 900℃);
7℃/sec (900℃ - 850℃);
4℃/sec (850℃ - 750℃);
2℃/sec (750℃ - 600℃);
1.5℃/sec (600℃ - 500℃);
1℃/sec (500℃ - 400℃);
0.5℃/sec (400℃ - 300℃);
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可选配件

● 可选购手动挡板阀(图1)

● 防腐型数显真空计(图4)

● 快速连接法兰,以方便于放置样品(图2)

● 多路质量流量计控制的混气系统,用于CVD和DVD实验(图5)

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尺寸 1
质保 一年质保期,终生维护(不含加热元件、炉管和密封圈)
质量认证 ● CE 认证
所有电器元件(>24V)都通过 UL / MET / CSA 认证
若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国 TUV 认证或 CAS 认证
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使用注意事项:

炉管内气压不可高于0.02MPa

由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全

当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态

进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击

石英管的长时间使用温度<1100℃

对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)

应用

此款设备可用于多种实验,以下列出了几种实验方法

RTE(快速热蒸发):蒸发料放在坩埚中,放入到炉体中心,基片放在样品台上,样品台与热电偶相连接,然后将样品台移动到理想的位置(此位置温度是实验所需要的温度)

HPCVD(混合物理化学沉积):与RTE相似,但需配混气系统,对反应气体混合并控制流量,同时也需设定蒸发料的位置(确定蒸发料的蒸发温度)

水平布里奇曼(Bridgman)法来长晶体:将样品和籽晶放入到坩埚中,并将坩埚放入到炉体中心位置,然后设定坩埚移动速度,慢慢移动坩埚

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