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  • 商品名称: VTC-600-3HD 三靶磁控溅射仪
  • 商品编号: VTC-600-3HD
  • 上架时间: 2015-11-06
  • 浏览次数: 199

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       VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

 

功能特点
  • 配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜(靶枪可以根据客户需要任意调换)。
  • 可制备多种薄膜,应用广泛。
  • 体积小,操作简便。
  • 整机模块化设计,真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
  • 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪。
技术参数
安装条件 本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15℃,湿度55%Rh±10%Rh下使用。
设备配有自循环冷却水机(加注纯净水或者去离子水)
AC220V 50Hz,必须有良好接地
设备腔室内需充注氩气(纯度99.99%以上),需自备氩气气瓶(自带Ø6mm双卡套接头)及减压阀
工作台 尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上
通风装置 需要
电源电压 220V 50Hz
总功率 2.5KW
极限真空度 < E-6mbar(配合本公司设备使用可达到E-5mbar)
工作温度 RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
靶枪数量 3个
靶枪冷却方式 水冷
靶材尺寸 Ø2″,厚度0.1mm-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
直流溅射功率 500W(可选)
射频溅射功率 300W/500W(可选)
载样台 Ø140mm
载样台转速 1rpm-20rpm内可调
保护气体 Ar、N2等惰性气体
进气气路 质量流量计控制2路进气,每个流量为100SCCM
主机尺寸 500mm×560mm×660mm
整机尺寸 1300mm×660mm×1200mm
重量 160kg
可选配件 金、铟、银、白金等各种靶材
标准配件 1 直流电源控制系统 2套
2 射频电源控制系统 1套
3 膜厚监测仪系统 1套
4 分子泵(德国进口) 1台
5 冷水机 1台
6 冷却水管(Ø6mm) 4根
7 靶材(不锈钢靶、陶瓷靶) 各1件

 

VTC-600-3HD  三靶磁控溅射仪操作视频

 

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