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  • 商品名称: VTC-3RF 三靶射频磁控溅射镀膜仪
  • 商品编号: VTC-3RF
  • 上架时间: 2015-11-06
  • 浏览次数: 146

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    VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

 

 
 
技术参数
输入电源

220VAC 50/60Hz, 单相

800W (包括真空泵)

等离子源

配有一13.5MHz,100W的射频电源(采用手动匹配)

可选配300W射频电源(自动匹配)

注意:100W手动调节的RF(射频)电源价格较低,但是每一次对于不同的靶材,都需要手动设置参数才能产生等离子体,比较耗费时间。300W自动匹配的RF(射频)电源,价格较昂贵,但比较节约时间

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磁控溅射头

三个1英寸磁控溅射头(带有水冷夹层),采用快速接头与真空腔体相连接

靶材尺寸: 直径为25.4mm,最大厚度3mm

一个快速挡板安装在法兰上

溅射头所需冷却水:流速10L/min(仪器中配有一台流速为16L/min的循环水冷机)

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真空腔体

真空腔体:256mm OD x 250mm ID x 276mm H,采用高纯石英制作

密封法兰:直径为274mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封

一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体(如下图)

真空度:<1.0×10-2 Torr (采用双极旋片真空泵),<5×10-5 torr (采涡旋分子泵)

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载样台

载样台可旋转(为了制膜更加均匀)并可加热

载样台尺寸:直径50mm (最大可放置2英寸的基片)

旋转速度:0 - 20 rpm

样品台的最高加热温度为700℃(短期使用,恒温不超过1小时),长期使用温度500℃

控温精度+/- 10℃

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真空泵(选配)

我公司有多种真空泵可选,请致电我公司销售

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薄膜测厚仪(可选)

一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å

LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据

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质保和质量认证

一年质保期,终生维护

CE认证

外形尺寸 1
使用注意事项

这款1英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度

为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量

请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内

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